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等离子体刻蚀
高密度等离子体刻蚀机是为亚0.25微米图形尺寸而开发的最重要的干法刻蚀系统。
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实用的等离子体刻蚀工艺必须满足哪些条件?
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描述等离子体刻蚀和干法去胶的原理
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